CST クリーンサアフェイス技術株式会社
３Ｄ構造を作るさまざまな用途（ＭＬＡ，モスアイ，ホログラム等）、プロセス（ＭＥＭＳ，ＴＡＢ，ＣＯＧ，ＣＳＰ等）で利用されるため、レジストの選択・厚さが重要視されております。
角基板へ面内均一性に優れた厚膜形成を独自のスピンコーター技術でお応えいたします。
●レジスト種類
お客様のご要望に対応するため、ＡＺ Ｐ４０００シリーズを始め、多様なレジストを揃えております。
ご支給レジスト依頼にも対応できる体制が出来ておりますので、お気軽にお問い合わせください。
●レジスト膜厚
用途、プロセスに応じた厚膜ラインアップを展開しております。
１．５μm～４０μm 多数実績あり。（厚膜４０μm～要相談）
●レジスト有効エリア
基板面積中央より ８０％程。（仕様については要相談）
●レジスト塗布前基板
サブストレート材については青板ガラス、石英ガラス、ノンアルカリガラス、その他ご用意できます。
低反射２層Ｃｒ膜付き基板や素ガラス上へのコーティングも対応可能です。
●対応サイズ
製品情報のサイズ表より、ご確認お願いいたします。
さまざまな面積へ厚膜レジストをご提供するため、お客様の多様なご要望へお応えいたします。
ウェハー基板やメーター以上のご要望につきましても、お気軽にご相談ください。
【製品実例】
使用レジスト： ＡＺ Ｐ４２１０
ターゲット厚膜： ４．５μm
面内レンジ： ０．１３９８μm （レジスト有効エリア）
塗布前基板： 低反射２層Ｃｒ膜付き
基板サイズ： 青板 ２０３ｘ２０３ｘ３．０
測定器： 非接触膜厚計 Ｆ２０（ＦＩＬＭＥＴＲＩＣＳ社製）
角基板へ面内均一性に優れた厚膜形成を独自のスピンコーター技術でお応えいたします。
●レジスト種類
お客様のご要望に対応するため、ＡＺ Ｐ４０００シリーズを始め、多様なレジストを揃えております。
ご支給レジスト依頼にも対応できる体制が出来ておりますので、お気軽にお問い合わせください。
●レジスト膜厚
用途、プロセスに応じた厚膜ラインアップを展開しております。
１．５μm～４０μm 多数実績あり。（厚膜４０μm～要相談）
●レジスト有効エリア
基板面積中央より ８０％程。（仕様については要相談）
●レジスト塗布前基板
サブストレート材については青板ガラス、石英ガラス、ノンアルカリガラス、その他ご用意できます。
低反射２層Ｃｒ膜付き基板や素ガラス上へのコーティングも対応可能です。
●対応サイズ
製品情報のサイズ表より、ご確認お願いいたします。
さまざまな面積へ厚膜レジストをご提供するため、お客様の多様なご要望へお応えいたします。
ウェハー基板やメーター以上のご要望につきましても、お気軽にご相談ください。
【製品実例】
使用レジスト： ＡＺ Ｐ４２１０
ターゲット厚膜： ４．５μm
面内レンジ： ０．１３９８μm （レジスト有効エリア）
塗布前基板： 低反射２層Ｃｒ膜付き
基板サイズ： 青板 ２０３ｘ２０３ｘ３．０
測定器： 非接触膜厚計 Ｆ２０（ＦＩＬＭＥＴＲＩＣＳ社製）
