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CST クリーンサアフェイス技術株式会社

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厚膜レジスト
3D構造を作るさまざまな用途(MLA,モスアイ,ホログラム等)、プロセス(MEMS,TAB,COG,CSP等)で利用されるため、レジストの選択・厚さが重要視されております。

角基板へ面内均一性に優れた厚膜形成を独自のスピンコーター技術でお応えいたします。

●レジスト種類
 お客様のご要望に対応するため、AZ P4000シリーズを始め、多様なレジストを揃えております。
 ご支給レジスト依頼にも対応できる体制が出来ておりますので、お気軽にお問い合わせください。

●レジスト膜厚
 用途、プロセスに応じた厚膜ラインアップを展開しております。
 1.5μm~40μm 多数実績あり。(厚膜40μm~要相談)

●レジスト有効エリア
 基板面積中央より 80%程。(仕様については要相談)

●レジスト塗布前基板
 サブストレート材については青板ガラス、石英ガラス、ノンアルカリガラス、その他ご用意できます。
 低反射2層Cr膜付き基板や素ガラス上へのコーティングも対応可能です。

●対応サイズ
 製品情報のサイズ表より、ご確認お願いいたします。


さまざまな面積へ厚膜レジストをご提供するため、お客様の多様なご要望へお応えいたします。
ウェハー基板やメーター以上のご要望につきましても、お気軽にご相談ください。

【製品実例】
 使用レジスト: AZ P4210
 ターゲット厚膜: 4.5μm
 面内レンジ: 0.1398μm (レジスト有効エリア)
 塗布前基板: 低反射2層Cr膜付き
 基板サイズ: 青板 203x203x3.0
 測定器: 非接触膜厚計 F20(FILMETRICS社製)





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