沿革

1977 4月

クリーンサアフェイス技術株式会社を資本金2400万円で設立

9月

寒川町倉見に第一工場

11月

同上に本社を移転。マスクブランクスの製造販売を開始

1978 2月

ビデオカメラ撮像管ＣＦ用プレートの製造販売を開始

11月

倉見第二工場を竣工し月産２万枚体制を確立

1982 2月

江刺中核工業団地（岩手県）に工業用地（5000坪）を取得

8月

ドライ・ウェット両用マスクブランクスＴ-６７を開発し、製造販売開始

1983 11月

岩手県江刺市に江刺第一工場を竣工

1984 1月

江刺第一工場で生産・出荷を開始

8月

神奈川県高座郡寒川町大曲に工場用地を取得

1985 4月

ハンドリング治具の製造販売を開始

1988 11月

神奈川県高座郡寒川町に本社工場を竣工

1989 2月

小型スパッター装置を開発し、蒸着からスパッター膜に切り替える

1990 10月

大型マスクブランクスの製造販売を開始

1992 9月

低反射ＢＭブランクスの製造販売を開始

1993 11月

ロックウェルインターナショナル社と超低反射ＢＭの共同開発契約を締結

1994 6月

超低反射ＢＭの開発を完了し、製造販売を開始

11月

江刺第二工場を竣工、低反射ＢＭブランクスの本格生産を開始

1996 4月

液晶用大型石英マスクブランクス620×720の製造販売を開始

1997 10月

江刺第三工場を竣工し、大型石英マスクブランクス700×800の出荷開始

1999 12月

大型基板用ハンドリング治具の製造販売開始

2000 12月

本社工場マスク棟を竣工

2002 5月

ハーフトーン膜生産開始

2003 3月

江刺マスク棟を竣工し、1350×2100サイズに対応

8月

ＩＳＯ９００１認証取得

2004 5月

優良申告法人の表彰を受ける

2005 7月

本社東棟竣工、液晶Ｇ８に対応し製造販売を開始

2006 1月

ハーフトーン膜本格生産

2008 8月

江刺・本館竣工、液晶Ｇ１０に対応し製造販売を開始

12月

マスクブランクス2100×2500の製造販売を開始

2011 10月

高精細対応マスクＺＦ１１の開発を完了し、製造販売を開始

2014 4月

ポラリス・キャピタルグループの経営体制に移行

2017 2月

三井松島産業株式会社（現：三井松島ホールディングス株式会社）（東証プライム、福証）の子会社に移行

2022 9月

厚膜レジストブランクス専用ライン化

2023 4月

CST株式会社に社名変更