製品情報

特殊な仕様例

• 特殊形状

  社内で生産治工具の設計を行えますので治具を作成することでレギュラーサイズ以外や特殊な形状の基板も加工可能です。
  ・長尺基板：長短比1:5～1:20程度の実績有り
  ・異形基板：大きく角を取った八角形の基板やギア型の基板等
  ※特殊形状の基板は主に御支給で承っております。

• マスキング成膜

  治具を作成することで基板の一部に膜を着けない、または指定した領域に成膜することも可能です。
  ・外周フチ取り：基板端から指定の幅でマスキング（膜未着）
  ・分割成膜　　：一部分のみ着膜。多階調マスク等で使用。
  ※あまり細かな範囲をマスキングすることはできません。

• 膜厚・光学濃度

  総膜厚で100Å～2500Å程度まで任意にコントロール可能です。
  交差は1000Å～で±10%、それ以下の膜厚はご相談下さい。
  また、遮光膜（Cr）のコントロールで光学濃度(OD)が変化し、高濃度品ではOD4.0、OD5.0、OD7.0等の実績がございます。
  ※OD5.0以上は膜厚による換算値での保証となります。

• 反射率・色見

  酸化膜（CrO）のコントロールで反射率とボトムが変化します。
  また、ボトムをどの波長に合わせるかで膜面の色見が変わります。
  反射率の例：436nmで2%以下、570nm～630nmで5%以下、等
  色見の例　：436nmボトム＝金茶色、600nmボトム ピース紺色
  ※これらの指定は光学部品用途に多く見られます。

• 膜抵抗値のコントロール

  Cr膜の組成を調整し抵抗値をコントロールすることも可能です。
  標準的な低反射2層膜（L）の膜抵抗値12~13Ω/□に対して低抵抗で 5Ω/□以下、高抵抗では50~90Ω/□の実績があります。

• ガラスエッチング用凹版膜

  3層膜のガラスより1層目の酸化膜を厚く着けた膜です（Mタイプ）この酸化膜にガラスエッチングの際の保護膜的な役割を持たせています。膜構成：ｶﾞﾗｽ-CrO/500Å+Cr/870Å+CrO/300Å狙い

• 帯電防止膜（EP）

  ガラスとCr膜の間に極々薄い金属膜を成型し導電性を付与します。
  露光プロセスにおける静電破壊の発生を低減させる効果が期待できます。

• 裏面成膜

  パターニング済みの基板の裏面（非パターン面）に成膜、色見が異なる膜を着けることでコントラストを設けられます。 レジストコートまで行い両面にパターン形成された例もあります。
  ※表裏の成膜仕上がりの差についてはご容赦願います。