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製品情報

04厚膜レジストコート

近年、フォトレジストのコーティングがフォトマスク以外にも応用される機会が増加しています。 従来の切削やエッチングでのモールド形成の微細化には限界が見えてきており代替手段としてリソグラフィによる光学設計へのニーズが高まりつつある中で弊社では長年培ってきたスピンコーティング技術をさらに向上させ数μm~60μmの厚膜コートが可能となりました。 多機能フィルムやマイクロレンズアレイなど微細な凹凸処理を施すことのできる金型作成の他にもウエハ等の切断・加工の際の防塵用保護膜としてもこの厚膜コートが用いられています。

厚膜マスクブランクス

    • 厚膜マスクブランクス

    従来の切削やエッチングでのモールド形成の微細化には限界が見えてきており、代替手段としてリソグラフィによる光学設計へのニーズが高まっています。

リソグラフィによる光学設計

    • リソグラフィによる光学設計

防塵用保護膜

    • 防塵用保護膜

    ウェハー等でのダウンサイジング時の防塵用保護膜としても用いることができます。
    レジストですので加工後の除去も容易に行うことができ、基材への影響もありません。

ラインナップ・スペック

  • レジストラインナップ

    狙いの膜厚に適したレジストにてご提案いたします。
    ・AZ P1350/AZ1500
    ・AZ P4000 Series
    ・AZ MIR-700 series
    ※ご支給レジストでのコートに関する御相談も承ります。

  • レジストスペック

    ・膜厚:1.5μm~60μmまでの実績がございます。
    ・均一性:有効エリア内厚み±10%のレンジを実現
    ・面内測定:小型から大型サイズまで非接触での現物測定が可能
    ※有効エリアは基板サイズ、レジスト膜厚により異なります。

  • 豊富なスパッタリング膜

    御指定の光源波長に合わせたHalation防止膜もご提案可能です。
    ・ボトム波長 365nm(膜面側/ガラス面側)
    ・ボトム波長 436nm(膜面側/ガラス面側)
    ・ボトム波長 600nm(膜面側/ガラス面側)

  • 対応基板サイズ

    通常のマスクブランクス同様に青板(ソーダガラス)、合成石英、
    ノンアルカリなどから選択いただけます。
    小型:2.5~7 インチ
    中型:8~26 インチ
    大型:520X800mm~800X960mm

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